中国工程院院士吴汉明本地可控的 55nm 比进口 7nm 更有意义

发布时间：2021-11-14 18:35:00 所属栏目：产品来源：互联网

导读：本月早些时候，在中国工程院主办的中国工程院信息与电子工程前沿论坛上，中国工程院院士吴汉明对我们目前面临的光刻机、产业链国产化等关键问题进行了分析。他认为，我国集成电路产业目前正面临两大壁垒：政策壁垒和产业性壁垒。前者包括巴统和瓦森纳协议

本月早些时候，在中国工程院主办的“中国工程院信息与电子工程前沿论坛”上，中国工程院院士吴汉明对我们目前面临的光刻机、产业链国产化等关键问题进行了分析。

他认为，我国集成电路产业目前正面临两大壁垒：政策壁垒和产业性壁垒。前者包括巴统和瓦森纳协议，后者则是世界半导体龙头长期以来积累的专利。

他表示，目前我国许多集成电路行业处于落后状态，例如三大卡脖子领域：装备、制造、半导体材料。不过目前摩尔定律放缓，这给我们带来了追赶的机会。

（编辑：张家口站长网）

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